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產品展示
  • ZEISS 凹面衍射光柵

    ZEISS 凹面衍射光柵將色散和成像性質合并到單一光學組件上,以集成到光譜系統中。這些凹面光柵采用全息方式生產,同時優化了焦平面,并大限度減少了光柵波長范圍內的像差。本產品的設計目的是提高光柵效率并大限度減少雜散光,從而提高光譜分辨率和分光儀的信噪比。我們提供具有羅蘭圓或多色器安裝配置的衍射光柵。

    型號:
    更新日期:2023-12-20
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  • 高性能反射光柵

    高性能反射光柵設計用于提供*且可預測的性能。這種高度的可重復性簡化了OEM系統的設計,并且降低了對枯燥的校準調整的需求。這些光柵具有λ/4的反射波前和高達90%的衍射效率,設計為可滿足嚴苛應用的需求。帶有裸鋁膜,適用于3001850nm的選件。

    型號:
    更新日期:2023-12-28
    面議
  • 全息衍射光柵膠片

    全息衍射光柵膠片采用兩種不同線寬規格:12,700線/英寸(500線/mm)和25400線/英寸(1000線/mm)。提高單位長度下的線條數量,衍射級的散射角將會增大,因此25400線/英寸(1000線/mm)的光柵可用在需要光譜范圍比較廣的場合,而12700線/英寸(500線/mm)的光柵可用在需要更多衍射級以便觀測的場合。用戶可選6“ x 12“的片狀全息光柵,或200英尺長的卷筒裝。

    型號:
    更新日期:2024-04-22
    面議
  • NIR 反射式鍍金光柵

    NIR 反射式鍍金光柵 刻劃式鍍金版商用光柵的在0.7-1.1微米波段效率提高了15-20%,可用于光纖脈沖壓縮以及使用硅探測器進行光譜設置等。

    型號:
    更新日期:2024-04-22
    面議
  • 反射式全息光柵

    反射式全息光柵是由兩束激光束干涉形成條紋,并在拋光底片上曝光,曝光介質上就形成了正弦橫截面圖案。 全息光柵產生的雜散光比刻劃光柵少,每毫米可有3600線,高于理論分辨率。由于正橫截面圖案的關系,全息光柵不容易產生閃耀,與刻劃型光柵相比效率也低了一些。但是,值得一提的是,當刻線寬度與波長之比接近1的時候,全息光柵的效率事實上與刻劃行光柵是一樣的。

    型號:
    更新日期:2024-04-22
    面議
  • 刻線式衍射光柵

    刻線式衍射光柵可將復色光(白光)分離成各種組分(通過衍射效應)。各種光柵是由高精度的母光柵進行多次復制而成。光柵復制過程見如下描述。 高品質儀器的光柵可近乎滿足所有的衍射需求,特別是在效率要求比較高的時候。可以根據尺寸,紋槽間距以及閃耀波長來選擇光柵。理論分辨率與母光柵的每毫米槽紋數成比例,閃耀角和光柵間距決定了特種波長和光譜區域的Z大效率。

    型號:
    更新日期:2024-04-02
    面議
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